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半导体单晶圆片蒸发清洗线
本设备适用于微电子半导体各尺寸硅晶圆片的清洗腐蚀，整体设备用料为德国磁白色聚丙烯（PP），经雕刻后组合焊接加工而成，门板采用德国透明聚氯乙烯（PVC）；腐蚀槽采用德国自然色聚偏二氟乙烯（PVDF）；清洗槽采用德国自然色聚丙烯板（NPP）；关健部件采用原器件。设备的腐蚀槽和清洗槽间的转换由SEW驱动，以迅速实现槽与槽之间的硅片转换。另外，此设备腐蚀槽还配有美国聚四氟乙烯加热器、虹吸上排、传感器。清洗槽配有溢流装置，和N2鼓泡装置。适用于微电子半导体行业，也适合于高校化学实验室作实验湿台、腐蚀台。非标规格，具体规格依客户工艺确定。
